11/03/20

Canon celebra el 50 aniversario del PPC-1, el primer sistema de litografía de semiconductores de Japón

TCanon Inc. anunció hoy el 50 aniversario del lanzamiento en 1970 del PPC-1 1 , el primer sistema de litografía de semiconductores de Japón, que señaló la entrada a gran escala de la compañía en el negocio de equipos de litografía de semiconductores. Los sistemas de litografía de semiconductores son indispensables para la fabricación de dispositivos semiconductores utilizados en dispositivos como cámaras, teléfonos inteligentes y automóviles. El equipo de litografía de semiconductores de Canon ha seguido evolucionando para permitir el avance de la tecnología digital.

La historia del equipo de litografía de semiconductores de Canon comienza con los avances en la tecnología de lentes de cámara. Utilizando tecnología desarrollada originalmente para lentes de cámara a mediados de la década de 1960, Canon desarrolló lentes de alta resolución para la fabricación de fotomáscaras. Con el objetivo de expandir sus operaciones, la compañía comenzó a desarrollar equipos de litografía de semiconductores para la fabricación de obleas, y en 1970 ingresó al negocio con la introducción del «PPC-1», el primer equipo de litografía de semiconductores de producción nacional de Japón. Más tarde, Canon lanzó el FPA-141F en 1975, el primer sistema de litografía del mundo en lograr una resolución más precisa que 1 micrón 2resolución. En 2010, el Centro de Historia de la Tecnología Industrial Japonesa reconoció al FPA-141F como un material histórico esencial para la ciencia y la tecnología.

En la actualidad, la cartera de equipos de litografía de semiconductores de Canon incluye los sistemas de litografía i-line 3 y KrF 4 para satisfacer una amplia gama de aplicaciones y demandas del mercado. Canon continúa ampliando su línea de equipos de litografía de semiconductores y funciones opcionales con el objetivo de soportar varios tamaños y materiales de obleas y envases de próxima generación 5 requisitos del proceso. Canon también ofrece soluciones de litografía de vanguardia como el equipo de litografía de nanoimpresión en desarrollo 6 que permite una miniaturización de patrones de circuitos rentable para procesos de producción en masa.


Canon Projection Print Camera (PPC-1)
El primer equipo semiconductor de Japón

Desde 1986, Canon también ha aprovechado su tecnología de litografía de semiconductores en el desarrollo, fabricación y venta de equipos utilizados en la producción de pantallas planas en sustratos de gran superficie. En el futuro, la compañía continuará buscando una mayor resolución y productividad para los sistemas de litografía de pantalla plana de Canon para satisfacer las necesidades de fabricación de pantallas LCD y OLED.

Mientras Canon celebra el 50 aniversario de su equipo de litografía de semiconductores, la compañía continuará mejorando y refinando sus sistemas de litografía con el objetivo de contribuir al desarrollo de la sociedad.

  • 1PPC significa «Cámara de impresión de proyección». Cuando se lanzó, se hizo referencia al PPC-1 como un dispositivo de impresión de semiconductores, no como un dispositivo de exposición.
  • 2Un sistema de exposición a semiconductores que utiliza una fuente de luz de lámpara de mercurio para la exposición a la longitud de onda i-line (365 nm). Un nanómetro (nm) es la milmillonésima parte de un metro.
  • 3Un sistema de exposición a semiconductores que utiliza luz láser generada a partir de gas criptón (Kr) y gas flúor (F) para la exposición a la longitud de onda de KrF (248 nm).
  • 4El nombre común para el micrómetro de la unidad SI. Un micrómetro es una millonésima parte de un metro.
  • 5 Elembalaje protege los delicados chips IC del entorno externo al tiempo que permite la conexión eléctrica y la comunicación con los chips y dispositivos externos.
  • 6La litografía de nanoimpresión implica presionar una máscara (molde) directamente en la resistencia en una oblea como un sello. Los patrones de circuito que incluyen estructuras de forma libre en la máscara se pueden transferir con precisión con una resolución más alta en comparación con los equipos de litografía óptica convencionales.

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